“这个人是谁啊？”
“你为什么要招揽他？”
邱淑侦一脸的好奇。
“林苯坚是一个十分厉害的高科技人才！”
“他是我们华夏宝岛人！”
“他在1963年，获得了宝岛大学电机工程学系学士！”
“1970年，他获得了鹰国俄亥俄州立大学电机工程学系博士！”
“博士毕业以后，他进入了IBM公司工作！”
“从普通的研究员干起，一直干到现在的研发经理！”
“自从他当上研发经理以后，他带着研发团队发明出许多世界第一的专利！”
陈浩将林苯坚的基本情况说了出来。
如果没有他的出现，林苯坚将会在2000年，加入宝岛的宝积电，成为宝积电的技术骨干，是宝积电‘研发六骑士’之一！
林苯坚最大的贡献就是发明了‘浸润式微影技术’，成为‘浸润光刻机之父’！
其实，光刻机巨头ASML之所以能够发展起来，成为世界上首屈一指的光刻机巨头，最主要的原因恐怕就是林苯坚发明的‘浸润式微影技术’！
依照摩尔定律，每经过18至24个月的时间，在成本保持不变的情况下，芯片上的晶体管数量便会翻倍，性能亦会实现飞跃式的提升。
然而，这一规律在20世纪90年代却遇到了前所未有的挑战。
当时，尽管樱花国和鹰国的光刻机企业众多，但它们却共同陷入了一片困境。
原因就在于光刻机的光源波长始终无法突破193nm的瓶颈，无法再进一步缩短。
在半导体制造的领域里，光源波长的缩短直接关联着芯片制程的先进性。
樱花国的呢康公司主张采用157纳米F2激光技术，而由鹰国主导的EUV联盟则力推使用极紫外光技术，其光源波长仅十几纳米。
然而，当时的技术瓶颈使得这两种先进方案都难以实现。
因此，全球半导体行业在这一时期仿佛陷入了停滞不前的状态。
就在这个关键时刻，林苯坚走进了人们的视线。
在宝积电工作的他，脑海中灵光乍现，提出了一个颠覆性的解决方案。
林苯坚建议，在镜头与硅片之间引入一层水，让光线经过水的折射，将波长降至1
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