统光学限制，理论上可以达到原子级精度（0.2纳米以下）。
不过，这款极其的环境要求很苛刻。
需要运行在比EUV高出四个数量级的超高真空、超低温以及能防止任何外部干扰的环境中！
这就使得这款设备的运行成本，要比市面上最先进的EUV光刻机高两三倍。
不过这个缺点，其实也并不致命。
毕竟除此之外，它已经全面超越并远远将EUV甩在了身后！
它的最小线宽可达0.6纳米，相当于3个原子的宽度，足以满足未来1埃米（0.1纳米）制程的需求！
并且直接通过数字信号控制场分布，改变电路设计只需软件更新，无需物理掩膜版
其并行处理能力也很强，通过量子纠缠特性，可实现多区域同时曝光，大幅提高产率！
在材料适应性上也更加广泛，不仅适用于硅基芯片，还可用于碳纳米管等新型半导体！
这款新光刻机的控制台与用户界面也很先进有趣。
控制台采用全息交互界面，无需物理触摸屏。
运行时，中央全息显示器会投射出50厘米高的三维设备模型，实时显示内部量子场状态
操作者可通过手势旋转、缩放全息影像，查看细节
参数控制面板是虚拟触摸界面，悬浮在设备前方，可进行精细调整
语音反馈系统提供操作指引和状态报告。
可以说，这台光刻机一旦登场，足以让全蓝星震动！
它会以代差的领先姿态，让大家都知道谁才是当下科技的真正领头羊！
此时姜允成负手而立，站在一台设备前。
通过光刻机的场投影腔的透明外壳，里面的运行情况一目了然。
在曝光过程中，内部形成绚丽的蓝色光纹图案，仿佛星云流动
六轴机械臂表面带着微弱的指示灯光，正在优雅的执行着程序。
场形塑器阵列发出柔和白光的复杂环状结构，缓慢旋转以调整场分布。
“到目前为止，这个项目已经花费了一百五十兆寒元了！总算是没有白费我那么多功夫！”
看了一会，小姜自言自语道。
这项研究的投入确实很高。
不过当然不是全部从果库掏的。
虽然寒果正府这两年很有钱，但发展项目很多也不能孤注一掷。
所以，这个项目的资方除了果库外
本章未完，请点击下一页继续阅读！