又不直接接触，这就是渐进式光刻机。
经过改良后的光刻机避免了光刻胶玷污光掩模，但是却带来了新的问题，光具有波粒二象性，由于光的衍射效应，光刻机的精度下降了，光源波长越长，衍射现象也就越严重。除了受限于光的衍射效应，光掩模与光刻胶的距离也决定了光刻的精度，间距越大，硅片上的投影与掩膜上图形的误差也就越大。
而为了进一步改进光刻机，张敬业想到了蔡司公司，他们是光学仪器的行家，也许，他们能够给予一些建议，帮助公司走出眼下的困境。
就这样，翻着手中的资料，时间过的很快，在秘书的提醒下，张敬业到了楼下，这边刚走出电梯，蔡司工程师也到了。
“鄙姓徐，徐会川。”
徐会川自我介绍道，虽然他很年青，但却也是一名非常优秀的光学工程师，这也是公司派他过来的原因。
在简单的寒暄后，他们就一起走进了电梯，一进电梯，张敬业说向对方介绍着他的想法。
“我明白你的意思，就是尽量减弱光的衍射效应，嗯，我差不多明白了，这并不困难。”
作光学工程师的徐会川，人还没出电梯，差不多就明白了对方的想法，也知道如何解决这个问题。
张敬业诧异道：
“不困难吗？”
“应该很简单，实现它，应该很简单，就是通过光学镜片的组合，在投影过程中减弱光的衍射效应，这并不复杂，我基本上已经有了一个思路……”
走出电梯之后，徐会川就解释起了他的构想，他的构想其实并不复杂，事实上，大多数技术都是如此，在一开始的时候，其技术难度是非常低的，另一个世界甚至直到八零年代，由于光刻机在当时甚至不如照相机复杂，所以，光刻机生产厂商多达数十家，很多光学企业都参与其中，包括日本的尼康，尼康的初代光刻机在八零年推出时，出现了许多问题，但在多家企业的共同努力下攻克了技术问题，使得尼康在八二年能够向美国卖出高性能的光刻机，其稳定性和自动化程度甚至比GCA更加优异。到了八零年代末期，尼康和佳能便已经占据了70%的市场份额，而那会的ASML才于荷兰埃因
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