第244章流片数据出炉，光刻机主体成功
宽敞明亮的机房内，首台逐光极紫外光刻机，被放置在中心位置，是全场毫无疑问的焦点。前方墙上的大屏幕处，最上面挂著个红色横幅。
写有一行标语。
「预祝全系统首次链路功能验证流片圆满成功」
而现场除总设计徐铭，贺鹏涛与丁顺安两位院士，和微电子装备项目科研人员外，还包括华天科技公司，科技部领导以及多位院士专家。今天全部聚集在这里，只为共同见证国家高端晶片制造的崛起。
其中很多人，都是项目某环节参与者。
最终的结果如何，对他们来说，称得上是与有荣焉。
心中都憋著一口气。
但像科学院院长余高远，则完全把自己，放在观众的席位上，基本全程保持沉默，很少参与发言。
把本次验证的主导权，悉数交给总设计师徐铭。
仅在心中希冀验证圆满成功。
当视线重新回到徐铭身上，他已经伸手接过，贺院递过来的逐光」最新检测数据，随即垂下目光神情认真的仔细查看。
从海外新思公司，与阿斯麦半导体设备，共同发出公告，宣布将在明年正式推出，全新的极紫外光刻机和配套EDA算法工具，到现在已过去三个多月时间。
然论他们如何都不会想到，在这短短三个多月内，首台逐光极紫外光刻机，已完成组装。
将采用全新技术的核心光源系统，和工作件物镜系统等零部件整合。
这几天在差不多二十四小时，不停地调试优化下，基本满足实际流片验证标准。
在如此情况下，由国家晶片制造产业专项领导小组表决，定下今天开展首次全系统链路功能验证流片实验。
「没问题。」徐铭重新把数据文件递还过去说。
贺鹏涛接下笑著说：「大家等这一天可是很久了，眼下终于要变成现实。」他讲完不知是想到了什么，脸上显露出来的情绪，相比刚才多出几分伤感。
早在十年前。
国家发布中长期科学和技术发展规划纲要，把极大规模集成电路制造技术及成套工艺，排在16个国家重大科技专项首位，真正重视起晶片制造技术，并给予持续和巨额的经费支持
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