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第40章 技术助力,初见成效[3 / 5]

他的眼神清澈、坚定,没有丝毫的虚伪和欺骗。

不知为何,楚冰的心中竟然生出了一丝莫名的信任。

“好,我给你十分钟。”楚冰点了点头。

苏宇笑了笑,从随身的公文包里拿出一台笔记本电脑,连接到会议室的大屏幕上。

“首先,我们来分析一下问题的根源。”苏宇指着屏幕上的芯片结构图,语速不快,却条理清晰,“你们现在使用的是传统的化学放大型光刻胶,在5nm工艺下,光刻胶的厚度只有30nm。在曝光过程中,光子的散射效应会导致光刻胶边缘模糊,从而产生漏电现象。”

陈建国不屑地说道:“这我们当然知道!问题是怎么解决!寰球顶尖光刻机厂商艾斯摩尔都没有完美的解决方案!”

“艾斯摩尔没有,不代表我们没有。”苏宇淡淡地说道,“我的解决方案是,放弃传统的化学放大型光刻胶,改用我研发的‘量子点光刻胶’。”

他一边说,一边在屏幕上画出了一个复杂的分子结构图。

“这种量子点光刻胶,以单分散的硒化镉量子点为核心,表面修饰有光敏基团。在曝光时,量子点会产生局域表面等离子体共振效应,将光子能量集中在纳米级范围内,完全消除了散射效应。同时,量子点的尺寸均匀性可以控制在0.1nm以内,光刻精度可以达到1nm以下。”

苏宇的语速越来越快,从量子点的合成方法,到光刻工艺的参数优化,再到显影液的配方调整,每一个技术细节都讲得非常透彻。

楚冰和陈建国的脸色,从最初的怀疑,逐渐变成了惊讶,最后变成了震惊。

他们都是芯片领域的顶尖专家,自然能听出苏宇说的这些话的含金量。

这个方案,不仅逻辑严谨,而且完全可行!

尤其是那个“量子点光刻胶”的概念,简直是天才般的创新!他们之前怎么就没想到呢?

“这……这太不可思议了!”陈建国激动得浑身发抖,“如果这个方案真的可行,我们不仅能解决5nm的问题,甚至能直接冲击2nm工艺!”

楚冰也激动得站了起来,身体微微颤抖。她看着苏宇,眼中闪烁着难以置信的光芒:“苏总,你……你是怎么

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